精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II，采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光，去除损失层，从而得到高质量的样品，用于在SEM、光镜或者扫描电子探针上进行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外将这两支离子枪对准靶材溅射，可用来对样品做导电金属膜沉积处理，以防止样品在电镜中发生荷电效应。

这款仪器被设计为不破坏真空，不将样品新鲜表面暴露在大气中，即可对抛光样品进行处理。样品的装卸是通过一个专门设计的装样工具在真空交换舱中完成。

两支具有更大电压范围的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的抛光。低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持一致。每个离子枪都能准确独立地进行对中。在仪器运行过程中，离子枪的角度可随时进行调整。离子枪的气流可在触摸屏上通过手动方式或者自动方式进行调整， 用于优化离子枪的工作电流。

PECS II样品台采用液氮制冷方式。可以有效的保护样品，避免离子束热损伤，消除可能的假象。

集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对PECS II系统的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。

涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。通过Gatan的样品装卸工具能实现快速样品交换（< 1min），这样就能保证换样过程中加工舱室始终处在高真空状态。