磁力控制保证了样品载体支撑组件在下落撞击机制过程中的安全性。只有在安全的条件下,下落撞击机制才能启动,样品载体组件才会撞击到低温铜座上,在‘抗反弹’设置作用下使得载体支撑组件不会发生撞击反弹。
样品冷冻的速度,样品载体上端抑制样品升温的效率,以及样品周围的软支撑效果,决定了样品结构是否保存完好。如以上措施都能达到条件,则样品可以保持10 μm 深度的完整结构。
撞击式制样设备
为冷冻扫描电镜系统而设计的撞击式冷冻制样设备,提供了样品载体和样品载台,它们可以放置在冷冻工作站或液氮泥加工站中。
冷冻的样品载体在低温氮气环境下能够很方便的分离,随后样品载体被放置在一个小的液氮容器里转移到设备中,此时需要一个带有铰链式装载工具。